日本の半導体過酸化水素市場の最新動向

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日本の半導体過酸化水素市場を動かしているのは何でしょうか。本記事では、国内需要を押し上げている要因と、市場を構成する製品タイプ・用途を整理します。

需要を押し上げている要因

日本の半導体産業における過酸化水素水の需要拡大は、主に先端ロジックやメモリ向けの極端紫外線リソグラフィ工程の増加と、それに伴う高純度洗浄プロセスの高度化が原動力となっています。特にシリコンウェーハの表面を原子レベルで清浄に保つ必要があるため、金属不純物や微粒子の許容濃度が従来のppb（十億分の一）オーダーからppt（一兆分の一）オーダーへと厳格化されており、このスペック変化が高純度過酸化水素水への需要を押し上げています。コスト面では、国内製造拠点の老朽化や人件費上昇に加え、地球温暖化対策の一環として、環境省が製造工程での排水基準を従来の半分以下に強化したことが、メーカーにとって設備投資と運転コストの増大要因となっています。また、技術面では、従来のアントラキノン法に代わる、イオン交換膜を用いた直接合成法や再生可能エネルギー由来の電解水素を使うプロセスが開発され、副生塩類の削減や炭素負荷の低減が可能となり、製品のライフサイクル全体を考慮した「グリーン過酸化水素」の指定が顧客から求められるケースが増えています。自動車向けパワー半導体や画像センサー向けの需要急増も、この高度化を加速させています。

製品タイプ別の内訳

「純度＞95％」
「純度95％」

タイプごとの特徴

半導体業界で使用される過酸化水素は、その純度によって主に二つのタイプに分類され、それぞれ異なる工程で重要な役割を果たします。純度が95%を超える高純度過酸化水素は、主として最先端の半導体製造プロセスにおけるシリコンウェーハの洗浄やエッチング工程、そしてフォトレジスト剥離剤として使用されます。この極めて高い純度は、回路パターンの微細化が進む中で、わずかな不純物が製品の歩留まりや性能に深刻な影響を与えることを防ぐために不可欠です。一方、純度が95%以下の工業用過酸化水素は主に、基盤となるシリコンウェーハの初期切断や研磨といった前工程、また製造装置や周辺設備のメンテナンス洗浄など、クリーン度の要求が若干緩やかな用途に用いられます。このタイプはコストパフォーマンスに優れ、精密さよりも処理効率や経済性が優先される場面で効果的に活用されています。

用途別の内訳

「半導体製造」
「フォトリソグラフィ」
"クリーニング"
"他の"

市場に関わる主要企業

"Solvay"
"Evonik Industries AG"
"ARKEMA INC."
"Mitsubishi"
"FMC Corporation"
"Akzo Nobel N.V."
"Hansol Holdings"
"Samyoung Pure Chemicals"
"Santoku Chemical Industries"
"Asia Union Electronic Chemical Corp"
"Crystal Clear Electronic Material"
"Jiangsu Denoir Technology"
"Jiangyin Jianghua Microelectronics Materials"
"Shanghai HABO Chemical Technology"

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